制冷加热控温系统在多个行业中展现了高精度、宽温域的温度控制能力，以下是具体应用案例及技术特点：

一、制药与生物医疗领域

1. 普泰克（上海）制冷设备技术有限公司
   该公司在药物研发中采用新芝阿弗斯高低温控温系统，覆盖 – 40℃至 200℃宽温域，配套玻璃反应釜实现 ±0.1℃精度控制。系统优化了 50 米远程控制功能，实验人员可在反应釜端直接操作 TCU，同时配备过温保护、低液位报警等安全机制，满足长时间连续实验需求。
   普泰克（上海）制冷设备技术有限公司为某药企提供 IN1590 XTW 温控系统，解决 – 78℃低温合成反应难题。通过单流体传热设计和板式换热器，在狭小空间内实现两台反应釜的独立控温，并搭配风冷式冷水机将热量排放至 35 米外，避免干扰实验室环境。

二、化工与材料科学领域

1. 多反应釜串联控温
   普泰克大温差换热机组在某药企实现 3 台反应釜分别控制在 80℃、20℃、-10℃，采用导热油 / 乙二醇 / 冷冻水三级换热，温度波动 ±0.8℃，批次间一致性显著提升。在精细化工连续流反应中，该系统可将微通道反应器温度从 150℃骤降至 – 30℃，产品收率提高。
2. 聚酯合成与烷基化反应
   普泰克 TCU 系统通过 ±0.1℃精准控温，在聚酯合成中减少二甘醇副产物；在 – 30℃烷基化反应中抑制副反应，使烷基苯收率提升至 95% 以上。系统动态调节加热 / 冷却功率，能耗降低 10%-20%，同时支持 – 60℃至 250℃宽温域。

三、半导体制造领域

1. 光刻与刻蚀工艺
   普泰克 Chiller 为 ArF 光刻机提供 23±0.1℃恒温环境，提升光刻胶曝光精度；在 EUV 光刻机中，通过 – 30℃冷水与 40℃热油双循环系统，将镜头热膨胀系数控制在极小范围，节点套刻精度显著提升。刻蚀工艺中，动态控温使反应腔温度稳定在 – 20℃至 80℃，刻蚀均匀性改善。
2. 直拉单晶制造
   普泰克 循环冷水机在直拉法生长单晶硅过程中，通过 ±0.5K 温度稳定性和 240kW 冷却能力，精确控制晶体生长界面温度，减少缺陷并提高硅锭质量。系统支持长达三天的连续运行，可靠性满足半导体工业严苛要求。

四、新能源与电池测试领域

1. 电池性能模拟
   TCU 控温系统在新能源电池测试中模拟 – 40℃至 80℃循环环境，精确控制充放电过程中的温度变化。某车企通过该系统发现高温充电效率下降问题，优化热管理后提升电池适应性，成功推出长续航产品。系统支持 ±0.1℃精度和快速升降温，测试效率提高 30%。
2. 氢能设备热管理
   撬装式水电解制氢装置采用多温区制冷设备，通过 – 26℃冷冻水预冷加氢模块，4℃冷却水循环冷却电解槽和压缩机，实现制氢、储氢、加氢全流程温控。集装箱顶部与底部隔层的风扇利用管路余热调节箱内温度，能量利用率提升 20%。

五、航空航天与极端环境模拟

1. 神舟飞船热控涂层
   中国航天科技集团为神舟飞船设计低吸收 – 低发射型热控涂层，在 – 100℃至 + 100℃极端温差下，将舱内温度稳定在 18-26℃。涂层通过选择性光热性能设计，阻隔太阳辐照升温与深冷环境漏热，保障航天员在轨半年的舒适环境。