精准控温，智造未来｜普泰克温控系统助力半导体材料高效稳定生产

发布时间：2025年04月17日　　　阅读次数：78 次

在半导体制造领域，温度控制的精度与稳定性直接影响芯片性能与良率。从光刻胶的均匀涂布到CMP研磨液的精密抛光，再到封装材料的可靠固化，工艺过程中每一度的偏差都可能影响最终产品品质。然而，传统温控设备能耗高、精度低、稳定性差，已成为制约半导体材料高效生产的“卡脖子”难题。普泰克（上海）制冷设备技术有限公司，聚焦半导体行业需求，以全流程温控解决方案与创新技术优势，助力企业实现更高效、更稳定的生产目标。

行业挑战—温度控制

1、控温精度不足：

传统设备在低温（如-15℃）工况下易出现温度回升现象，可能导致光刻胶形变或研磨液性能波动，影响工艺一致性。

2、效率低下：

传统控温设备能耗较高，且控温精度不足，可能导致原料浪费与生产成本增加。

解决方案——普泰克技术突破

普泰克以供热主机单元、管路系统、二级介质温控系统、膨胀系统、智能控制系统为核心，构建覆盖半导体全流程的温度管理网络，为行业提供可靠的技术支持。

普泰克温控系统技术优势

1、变频技术与节能：

采用变频技术，通过系统结构设计和自主控制算法，精准调节压缩机输出频率，满足制程需求的同时实现最低能耗。

2、全密闭式系统：

全密闭设计，无油雾、无异味，导热液体使用寿命长。

3、快速加热与制冷：

参与循环的导热液体少，加热和制冷速度快。独立的制冷与加热单元，精确控制温度变化，热惯性小，响应速度快。

4、模块化设计：

结构紧凑，占地面积小，安装方便，移动便捷。

5、智能监控与诊断：

流量、泵压、温度等参数可以同时监控设定和控制，运行状态实时显示，故障自动诊断，具备多项报警保护功能。

6、控制重复性与稳定性：

基于高级动态控制系统，确保每次控制结果一致，提升生产稳定性。

7、自适应PID控制：

自适应PID算法，适应不同环境和负载，无需调整参数，实现最佳温度控制。

核心产品——半导体温控Chiller

PTS系列高精度冷热循环器

➤ 应用场景：光刻胶低温存储、CMP研磨液恒温供应

➤ 技术亮点：宽温域控制能力，支持高精度温度调节

PHE系列高精度换热温控单元

➤ 应用场景：封装材料固化、蚀刻液温度管理

➤ 技术亮点：快速响应温度变化，适配复杂工艺需求

为什么选择普泰克？

✅ 深耕半导体领域：服务半导体前、中、后道全流程工艺，覆盖八大核心制程设备。

✅ 定制化服务能力：依托模块化平台，提供标准化与个性化结合的解决方案。

温度控制是半导体制造中不可或缺的“隐形工艺”。普泰克以技术创新为驱动，通过精准、稳定、高效的温控系统，助力企业优化生产流程，减少资源消耗，迈向高质量制造。

半导体行业温控专家