加热均匀，保障扩膜质量，为晶圆划片后蓝膜扩张提供均匀、可控的加热。

直冷型技术，-80℃高效冷凝捕获，为真空环境下的冷板提供深低温，保障真空度与工艺洁净度。

±0.01℃极致稳定，保障纳米级光刻精度，为光刻机曝光系统、光学透镜及工件台提供亚微米级热稳定性。

稳定的温度管理，助力注入工艺，为离子源、磁铁线圈、真空腔体提供冷却方案。