加热均匀，保障扩膜质量，为晶圆划片后蓝膜扩张提供均匀、可控的加热。

高精度，耐低压设计，保障膜厚均匀性，为CVD/PVD/ALD反应腔、基座、气体分配系统提供精准控温

程序控温+高精度，从小试到中试全覆盖，为光刻胶、显影液、剥离液研发生产提供精确温度曲线。

稳定的温度管理，助力注入工艺，为离子源、磁铁线圈、真空腔体提供冷却方案。