光刻机超精密温控系统 | 普泰克

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光刻机超精密温控系统

±0.01℃极致稳定，保障纳米级光刻精度，为光刻机曝光系统、光学透镜及工件台提供亚微米级热稳定性。

基于帕尔帖效应——通过N型与P型碲化铋半导体组成电偶，实现无机械压缩的固态制冷。无运动部件、振动较小、控温精度较高，已应用于部分光刻机物镜系统中。

产品推荐

加热均匀，保障扩膜质量，为晶圆划片后蓝膜扩张提供均匀、可控的加热。

扩膜机加热控温系统

稳定的温度管理，助力注入工艺，为离子源、磁铁线圈、真空腔体提供冷却方案。

离子注入机温控系统

±0.3℃稳定DIW温度，保障清洗蚀刻一致性，为半导体工厂纯水系统提供大流量、高稳定性温控。

半导体级纯水温控系统

-55°C～150°C三温测试，±0.1°C精准控温，为晶圆测试探针台提供高精度、快速响应的温度控制，提升测试良率

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