高精度，耐低压设计，保障膜厚均匀性，为CVD/PVD/ALD反应腔、基座、气体分配系统提供精准控温

稳定的温度管理，助力注入工艺，为离子源、磁铁线圈、真空腔体提供冷却方案。

±0.3℃稳定DIW温度，保障清洗蚀刻一致性，为半导体工厂纯水系统提供大流量、高稳定性温控。

耐腐蚀设计，±0.5℃保障工艺一致性。为刻蚀液、显影液、CMP研磨液提供稳定可靠的温度控制。