超高纯流路，保障ppm级纯度，为ALD/CVD前驱体蒸馏、升华、输送提供精确控温。

±0.01℃极致稳定，保障纳米级光刻精度，为光刻机曝光系统、光学透镜及工件台提供亚微米级热稳定性。

±0.3℃稳定DIW温度，保障清洗蚀刻一致性，为半导体工厂纯水系统提供大流量、高稳定性温控。

耐腐蚀设计，±0.5℃保障工艺一致性。为刻蚀液、显影液、CMP研磨液提供稳定可靠的温度控制。