高精度，耐低压设计，保障膜厚均匀性，为CVD/PVD/ALD反应腔、基座、气体分配系统提供精准控温

防沉淀均匀控温，保障抛光一致性，为CMP研磨液配制、分散、存储提供稳定温度控制。

±0.01℃极致稳定，保障纳米级光刻精度，为光刻机曝光系统、光学透镜及工件台提供亚微米级热稳定性。

±0.3℃稳定DIW温度，保障清洗蚀刻一致性，为半导体工厂纯水系统提供大流量、高稳定性温控。