CMP研磨液生产温控系统

防沉淀均匀控温,保障抛光一致性,为CMP研磨液配制、分散、存储提供稳定温度控制。

专为CMP研磨液生产设计的高稳定性Chiller,±0.2℃精准控温,大流量低剪切循环,防止颗粒沉降与团聚,支持防沉淀搅拌联动控制,保障批次一致性

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