直冷型技术，-80℃高效冷凝捕获，为真空环境下的冷板提供深低温，保障真空度与工艺洁净度。

±0.3℃稳定DIW温度，保障清洗蚀刻一致性，为半导体工厂纯水系统提供大流量、高稳定性温控。

-55°C～150°C三温测试，±0.1°C精准控温，为晶圆测试探针台提供高精度、快速响应的温度控制，提升测试良率

主要用于半导体制程中对多路反应腔室的精准控温，装置由热交换器、循环泵、压缩机和控制系统构成，采用先进的控制算法，提高了chiller的稳定性、控温精度和反应速度。 在带负载的情况下控温精度可达±0.5℃，可在-20℃~85℃之间任意控温，有良好的温度稳定性。