半导体级纯水温控系统｜±0.1℃稳定DIW温度，助力清洗蚀刻一致性

发布时间：2026年09月14日　　　阅读次数：2 次

在半导体制造过程中，去离子纯水（DIW）是应用广泛的介质之一。从晶圆清洗到蚀刻，纯水水温的稳定性与工艺一致性密切相关。

普泰克（上海）制冷设备技术有限公司推出TLS系列精密冷水机，面向半导体工厂纯水系统，提供大流量、高稳定性的DIW温控解决方案。

水温波动，可能带来哪些影响？

去离子纯水贯穿半导体制造多道关键工序。水温波动可能对工艺环节产生如下影响：

01、蚀刻速率偏移

水温变化 → 化学反应速率随之改变 → 蚀刻速率可能偏离预期，工艺窗口收窄。

02、颗粒再附着增加

温度不稳定 → 颗粒可能在晶圆表面重新粘附 → 缺陷风险上升。

03、表面反应均匀性下降

区域温差 → 表面反应速率出现差异 → 晶圆内/批间一致性受到影响。

水温控不准，工艺一致性难以保障。

普泰克解决方案

针对半导体纯水系统的温控需求，普泰克TLS系列精密冷水机提供专业解决方案。

典型工况

核心特点

在半导体制造中，纯水温控是影响工艺一致性的重要环节。普泰克TLS系列精密冷水机，以±0.1℃的稳定控温能力、全氟/316L不锈钢换热器带来的低离子析出特性，以及灵活的定制选项，为半导体工厂纯水系统提供可靠保障。

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